在光敏化学领域，蚀刻技术是一种利用光刻技术加工薄的精密金属制品的加工技术。其原理是在金属基材上均匀涂抹化学感光材料，然后将图案复制到覆盖基材的感光掩模上。在曝光过程中，掩模的未感光部分被去除，基板的曝光部分处于后续处理过程中。会被侵蚀。那么，底片在蚀刻过程中是如何完成曝光的呢？
首先，将要蚀刻的图案通过光绘转移到两个相同的薄膜上，或通过光刻转移到两个相同的玻璃薄膜上。然后通过手动对齐或机器对齐来对齐薄膜。然后将涂有感光油墨或感光干膜的钢板放在胶片中间，即可曝光。曝光时，对应底片黑色部分的钢板不感光，对应底片白色部分的钢板感光，钢膜感光部分上的油墨或干膜发生聚合反应.最后通过显影机，使钢板上的感光油墨或干膜不被显影剂熔化，而未感光的油墨或干膜在显影剂中熔化去除，从而转移待蚀刻的图案通过曝光到钢板。
曝光是在紫外光照射下，光引发剂吸收光线分解成自由基，自由基再引发不可聚合单体聚合交联，形成不溶于稀碱溶液的三维大分子结构反应之后。曝光一般在自动曝光机中进行。根据光源冷却方式的不同，目前的曝光机分为风冷和水冷两种。除了干膜光刻胶的性能外，曝光成像的质量、光源的选择、曝光时间（曝光量）的控制、照相底版的质量都是影响光刻胶质量的重要因素。曝光和成像。
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